產(chǎn)品介紹：

   XQ20-GⅠ型激光平面干涉儀主要用于精密光學(xué)平面的平面度測(cè)量，光學(xué)平板的微小楔角測(cè)量,光學(xué)材料均勻性測(cè)量,配置相應(yīng)的工作臺(tái)可實(shí)施光學(xué)薄板波前誤差的測(cè)量。是光學(xué)元件加工廠、光學(xué)儀器生產(chǎn)廠必備的光學(xué)檢測(cè)儀器。

   此型號(hào)儀器采用大工作室移動(dòng)檢測(cè)方案，解決大口徑高精度平面加工在線檢測(cè)難題；采用隱形布簾式圍板,既可保證高精度測(cè)量的需要又可實(shí)現(xiàn)大批量生產(chǎn)車間大口徑工作盤流水快速的篩選測(cè)量;運(yùn)用高分辨率的攝像系統(tǒng)及顯示系統(tǒng),減輕了操作人員的勞動(dòng)強(qiáng)度,檢測(cè)直觀方便;運(yùn)用經(jīng)濟(jì)合理的簡化結(jié)構(gòu),既保證儀器應(yīng)有的測(cè)量精度又降低了制造成本,為中低精度大批量生產(chǎn)廠家實(shí)現(xiàn)非接觸快速測(cè)量創(chuàng)造了條件。

技術(shù)參數(shù)：

1．第一標(biāo)準(zhǔn)平面（A面），工作直徑D1=Φ200mm，平面的面形偏差小于0.045μm(λ/15)

2．第二標(biāo)準(zhǔn)平面（B面），工作直徑D2=Φ200mm，平面的面形偏差小于0.045μm(λ/15)

3．準(zhǔn)直系統(tǒng)…………………………工作直徑Φ200mm ，焦距 f = 580mm，波象差<λ/15

4．工作室尺寸…………………………1100×1100×350mm 可測(cè)量范圍800mm×800mm(移動(dòng))

5．光源規(guī)格……………………………………激光ZN250（He－Ne）（632.8nm）。

6．儀器的外形尺寸……………………………… 1400×1250×1560mm(高)

7．儀器質(zhì)量…………………………………………500kg